UX-510 X熒光光譜儀
產品特點：
• 真空測試系統
特別設計的真空測試系統，**保證了輕質元素（CL等）的檢測質量，同時保留了原有測試系統對于其他元素的適應性。不會因測輕質元素而降低對其他元素的測試效果。
• 全自動操作
自動化的操作系統、人性化的操作界面，通過鼠標即可完成全程操作（真空控制、原級濾光片、準直器、二次濾光片、樣品的移動和樣品蓋的開關、工作曲線的選擇全部實現自動化控制，程序會根據預先設定的測試條件自動進行所有的切換動作）。
• 照射區**控制系統
可**調整的X光照射區域控制系統，實現了對測試區域的準確把握。從根本上保證測試數據的對應性。
• 成熟的經典分析方法
集國家七·五、九·五科技攻關計劃之科技成果，匯近二十五年分析測試應用經驗的經典數學分析模型，為測試者提供可靠、精準、穩定的分析結果。
• 強大的軟件功能
高度智能化設計使操作更加簡便，輕松成為測試專家。
可根據測試情況，自動設定各操作單元動作及相關技術參數。既保證了相關器件的壽命，又避免了人為操作誤差。
全自動高精度背景擬合、多元回歸等解譜方法的應用，使復雜材質的檢測更加準確、便捷。
特別預置的譜圖對比功能，很方便的實現歷史譜圖與被測譜圖的對比，利于對數據變化材質的**分析，進一步提高企業的風險應對水平。
簡單、迅速的數據管理與報告輸出格式，方便用戶進行相關的數據管理與報告輸出。
• 開放性工作曲線
用戶可很方便的建立不同材質材料的工作曲線，提高工作曲線與被測材料的對應性。建立本地化的工作曲線庫，從而**提升檢測精度。
• 嚴謹的硬件集成與結構設計
對可能影響整機**度及穩定性的核心器件，全部采用優異進口原廠產品。
嚴謹的模塊化設計與組件選擇，確保了整機性能的穩定性與未來服務的操作簡便性。
特別設計的原級、二次濾光系統，既保證了對有害元素的激發效率，同時**降低了作為干擾因素的背景強度，充分提高峰背比，大幅度降低檢出下限。
• 全光路射線防護系統
業界的全光路三重防護系統（軟件防護、硬件防護、迷宮式結構），根本上避免了故障、誤操作等可能的輻射傷害。確保機器操作過程中輻射量低于環境本底值。（開蓋測量除外。大樣品進行開蓋測量時的特別警示系統，進一步確保用戶在該類物質測試過程中的安全顧慮）。
全光路防護的結構設計，減少了無射線區域的無必要防護，進一步確保了整機散熱質量，**提升系統的環境適應性及穩定性。
• **的配套組件
購置附件后可進行六價鉻定量測試。
配套多元素分析軟件后配合真空裝置測試范圍可擴展到（AL~U），滿足擴展的元素檢測需求。
鍍層分析軟件，可進行鍍層膜厚測試。
多元素分析及鍍層分析軟件為二選一標配，用戶如需要另外一款軟件需另行購置。
| UX-510配置與參數 |
| 探測器 | Amptek X-123 配置原廠MCA |
| 高壓電源 | Spellman MNX50P50 |
| X光管 | 丹東 專用X光管 Mo靶 |
| 真空泵 | 寧波愛科發 N051 |
| 自動化操作系統 | 華唯磚利設計 實現：真空、原級濾光片、準直器、二次濾光片、樣品及測試區域定位、樣品蓋開關、工作曲線選擇全自動 |
| 分析軟件 | UX-510 V6.0 ； 多元素分析軟件， 鍍層膜厚分析軟件（二選一）。 |
| 技術參數 |
| 儀器尺寸 | 830 (W)*530(D)*500(H)mm |
| 裝箱尺寸 | 970(W)* 640(D)* 680(H)mm |
| 樣品腔尺寸 | 小樣品腔：300(W)*300(D)*100(H)mm； 真 空 腔：ø 200*40(H) mm 大樣品腔：無限制，小于30公斤 |
| 真空度 | 測試真空度20Pa，極限真空0.1Pa |
| 重量 | 凈重：85kg |
| 工作環境 | 15—30℃ 相對濕度≤85%（不結露） |
| 可分析元素范圍 | Al-U |
| 極限檢出限 | Cd/Cr/Hg/Br≤2 ppm ,Pb≤5ppm CL≤50ppm |
| 測量時間 | 200-400s |
| 探測器*佳分辨率 | 149±5eV |
| 電源 | AC 220V ± 10%，50Hz 1500W |
| 選配件 |
| 六價鉻測試儀 |
| 多元素分析軟件， 鍍層膜厚分析軟件（二選一） |
