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詳細介紹
日本AMAYA天谷制作所株式會社
常壓CVD設備AMAX800V
具有連續型的高生產率常壓CVD設備
AMAX800V
8英寸 每小時 100 張的高吞吐量
使用SiC托盤的重金屬污染對策和長期穩定的工藝
提高可維護性
特征
通過改進輸送機構實現了高吞吐量。
SiH4，PH3，B2H6和O2從AMAX型分散頭分散后混合并表面反應，優化后在低溫和低壓下更有效地產生熱化學反應。 可以獲得優異的膜厚均勻性和雜質濃度均勻性。
使用SiC托盤很難發生重金屬污染。 此外，可以獲得穩定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
標配自動托盤更換功能，實現工人**，縮短維護時間。 此外，自動抬起頭部底座的機構便于清潔。
性能
| 均勻的薄膜厚度 | ≦±3.0% |
|---|---|
| 支持的晶圓尺寸 | 8寸 |
| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 薄膜沉積溫度 | 350°C~450°C |
| 生產力 | 100個/小時 |
主要規格
| 設備尺寸 | 1460毫米（闊） x 3830毫米（深） x 2250毫米（高） |
|---|---|
| 加熱機構 | 電阻加熱 |
| 裝載卸載 | 機器人 CtoC 運輸 |
| 分散頭（氣體噴嘴） | AMAX頭（標準2頭，3頭可用） |
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