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詳細介紹
日本AMAYA天谷制作所株式會社
量產6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設備A6300S
量產6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設備
A6300S
6 英寸 吞吐量為每小時 120 張
采用SiC托盤防止重金屬污染的對策
特征
這是一種連續常壓CVD系統，可滿足小直徑晶圓批量生產設備的需求，實現每小時120片晶圓的吞吐量。
該設備通過運輸系統實現批量生產，該系統*大限度地減少了為實現各種薄膜沉積區域而開發的分散頭和托盤的數量，并降低了成本。
使用SiC托盤很難發生重金屬污染。 此外，可以獲得穩定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
標配自動托盤更換功能，實現工人**，縮短維護時間。 此外，自動抬起頭部底座的機構便于清潔。
性能
| 均勻的薄膜厚度 | ≦±4.0% |
|---|---|
| 支持的晶圓尺寸 | ≦6英寸 |
| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 薄膜沉積溫度 | 350°C~450°C |
| 生產力 | 120 頁/小時 |
主要規格
| 設備尺寸 | 1500毫米（寬） x 2850毫米（深） x 2000毫米（高） |
|---|---|
| 加熱機構 | 電阻加熱 |
| 裝載卸載 | 機器人 CtoC 運輸 |
| 分散頭（氣體噴嘴） | A63 頭（標準 2 頭） |
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