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半導體生產用純水設備
超純水設備是用在反滲透等水處理工藝之后，用來制取超純水的水處理設備。設備將陰、陽離子按照比例混合裝填于同一容器內，使其處理后的水質電導率可低于1uS/cm以下，出水電阻率達到10MΩ.cm以上，根據不同行業的用水要求，可將出水電阻率可控制在1-18MΩ.cm之間。
半導體生產用純水設備特點
超純水傳統的制備工藝通常是采用離子交換樹脂進行制取，但采用離子交換樹脂通常需要經常性的進行樹脂再生，即耗費物力又浪費人工，我們公司經過多年實踐，同時結合新的膜分離技術，采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合研發的各行業用超純水設備，運行可靠。與新工藝相比具有造價低，系統穩定等優點。
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