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真空烤盤爐 麻辣燙爐

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更新時間:2023-04-01 09:57:27瀏覽次數:1275

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產品簡介

真空烤盤爐

應用于LED行業MOCVD石墨盤的真空烘烤工藝

產品特點

● 優質的材質保證了設備的密封性,提高了設備的整體性能

● 法蘭盤冷卻水處理,密封處全部采用氟橡膠密封圈,保證設備的密封性及使用壽命

● 內置冷卻電機,保證設備的低漏率,且運行可靠

● 真空室的壓升率為5×10-3Torr /h,氦質譜儀進行檢漏,漏率在E-11Pa.m3/s級

詳細介紹

真空烤盤爐

應用于LED行業MOCVD石墨盤的真空烘烤工藝

產品特點

  優質的材質保證了設備的密封性,提高了設備的整體性能

  法蘭盤冷卻水處理,密封處全部采用氟橡膠密封圈,保證設備的密封性及使用壽命

  內置冷卻電機,保證設備的低漏率,且運行可靠

  真空室的壓升率為5×10-3Torr /h,氦質譜儀進行檢漏,漏率在E-11Pa.m3/s級

  全自動程序控制功能,自動化程度高,自動與手動可隨時轉換,處理異常情況極為方便

  關鍵部件全部采用進口部件,具有高可靠性

  具有良好的人機界面

  系統故障自診功能

  完善的報警系統及安全系統

  具有歷史記錄功能

  可根據用戶的特殊要求增減開發相應功能

 

 

 

 

     技術指標

 

規格與性能

VBF-465

VBF-650

VBF-800

VBF-1000

安裝尺寸 W×L×H

2450×2500×2050

2480×2500×2150

2930×2880×2400

3310×3000×2700

加熱區尺寸φ×L

Φ520×700

Φ750×750

Φ890×1000

Φ1080×1100

工作區尺寸φ×L

Φ480×600

Φ650×740

Φ800×900

Φ1000×1000

載重量

120Kg~200Kg

加熱體功率

環狀石墨加熱器

380V 三相  總加熱功率90~120KVA

絕熱系統

多層石墨氈、柔性石墨紙

高溫度

1450℃(超溫限制)

分壓氣體選擇

N2/混合氣體(Forming gas)

備壓氣體選擇

N2

大升溫速率

10℃/min(空爐)

溫度均勻性

±4℃(800~1400℃

冷態真空度

(冷爐、空載、大氣壓狀態下達到10-3 Torr:≤30min

抽氣速率

清潔空爐:30min大于10-2 Torr

腔體漏率

5×10-3 Torr/h

大冷卻速率

快冷開啟之前可控可編

 

真空烤盤爐

 

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