MXG1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統

技 術 參 數

設備簡介

 MXG1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統是利用輝光放電產生的等離子體中的電子動能去激活氣相的化學反應。該系統由MXG1200系列真空管式爐、石英反應腔室、射頻電源、多通道混氣系統、真空機組、反應控制系統組成。

設備特點

1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相；

2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量；

3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率；

4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。

開啟式真空管式爐

石英管

Φ60/80/100mm L1400mm

加熱區尺寸

440mm

恒溫區尺寸

200mm

控溫模式

采用人工智能調節技術，具有PID調節、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。

升溫速率

≤20℃min

極限溫度

≤1200℃

長時間工作溫度

≤1150℃

表面溫度

< 60℃（1000℃保溫）

控溫精度

±1℃

加熱元件

電阻絲（0Cr27Al7Mo2）

密封及連接方式

CF  KF  真空波紋管

質量混氣系統

流量規格

50sccm\100sccm\200sccm\300sccm\500sccm(可自選量程)

調節閥類型

電磁調節閥

控制精度

±0.2%F.S

工作壓差范圍

（50～300）KPa

混氣罐尺寸

Φ80×120mm

電功率

AC220V/50HZ/20W

真空系統參數

低真空配置

4L/S 機械泵  電阻真空計 真空波紋管 擋板閥

極限真空度：≤0.1Pa

高真空配置

4L/S 機械泵  300L/S分子泵 復合真空計 真空波紋管 擋板閥 

極限真空度：≤1.3×10-4Pa

射頻電源系統

輸出功率

5-300W   5-500W  (可選)

控制模式

手動/PLC/PC

工作頻率

13.56MHZ標準正弦波

供電電壓

單相交流（190V～240V）

冷卻方式

風冷

設備外形尺寸

1800mm（長）*600mm（寬）*1390mm（高）

設備重量

215KG

服務保障

質量：產品的制造和檢測嚴格按相關標準執行，并有質量記錄可查；每臺設備都有*的制造編號，并建立用戶檔案。

交貨期：按合同約定執行；如客戶有特殊原因需提前交貨的，我公司可特別組織生產，力爭滿足用戶需求。

售   后

1、物流送貨****；

2、高效率服務：當設備不能正常使用時，請及時，我們會在10分鐘內響應；2小時內提供應急解決方案；24小時內安排專業人員*；

3、免費更換維修服務：本產品提供一年免費保修服務（易損件除外）；

4、定期回訪服務：提供定期回訪或上門回訪服務；

5、免費更新服務：我們免費提供軟件的升級更新服務，使設備始終處于國內；

6、保證配件供應：保證設備配件及配套產品的供應；